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Ansys Lumerical RCWA 求解器可用于分析平面波入射到周期性結(jié)構(gòu)上的光學(xué)響應(yīng)。與 STACK 求解器不同，RCWA 求解器可用于幾何形狀具有周期性變化的結(jié)構(gòu)，例如光子晶體和衍射光柵。由于仿真時間通常比FDTD短得多，RCWA求解器是分析周期性結(jié)構(gòu)的理想工具。
▌規(guī)格概要
● RCWA算法
●?二維或三維建模
●?自定義任意表面和立體形貌
●?多層結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電場和磁場分析
●?S與P 偏振態(tài)分析
●?光柵級數(shù)的衍射效率分析
●?光學(xué)功率的透過率和反射率
●?支持和幾何光學(xué)工具的聯(lián)合仿真
● 衍射光柵
●?周期性結(jié)構(gòu)
●?AR/VR
▌主要特點(diǎn)
三維 CAD 環(huán)境
CAD環(huán)境和可參數(shù)化仿真物件有助于快速構(gòu)建二維或三維模型，自定義任意表面和立體形貌，用戶還可以從標(biāo)準(zhǔn)CAD和IC版圖工具中導(dǎo)入幾何結(jié)構(gòu)。
幾何光學(xué)工具聯(lián)用
支持仿真數(shù)據(jù)結(jié)果輸出給幾何光學(xué)工具Ansys Speos 和Ansys Zemax，實(shí)現(xiàn)從波動光學(xué)到幾何光學(xué)的耦合仿真分析。當(dāng)前支持動態(tài)鏈接和靜態(tài)鏈接兩種數(shù)據(jù)交互模式。
切層自定義
支持用戶自定義切層位置和數(shù)目，同時軟件支持自動檢測不同 object 的界面分層方便用戶邊界選擇界面切層及切層數(shù)目。
